China erzielt Durchbruch bei Laser-Lithographie-Technologie
Ein chinesisches Forschungsinstitut hat einen Durchbruch in einer neuartigen 5-nm-Laserlithografie-Technologie erzielt, die nach Ansicht von Brancheninsidern die Grundlage für die Forschung an einer selbst entwickelten fortschrittlichen Lithografie-Maschine legen könnte.
Sie betonten jedoch, dass China von der Herstellung einer solchen Chip-Herstellungsmaschine noch „weit entfernt“ sei, da es immer noch technologische Hindernisse gebe. Doch wer China kennt weiß, dass dies in nicht allzuferner Zukunft auch gelöst sein wird.
Das Suzhou-Institut für Nanotechnologie und Nanobionik der Chinesischen Akademie der Wissenschaften (Sinano) gab am Donnerstag zusammen mit dem Nationalen Zentrum für Nanowissenschaften und Technologie bekannt, dass sie wichtige Fortschritte bei der Ultrapräzisions-Laserlithographie gemacht haben.
Die neue Technologie hat die traditionelle Beschränkung des Laser-Direktschreibens gebrochen, um auf Nano-Ebene verarbeiten zu können. Die Ultrahochpräzisionsverarbeitung basiert auf einer neuartigen dreischichtigen Membranstruktur.
Neben der hohen Präzision demonstriert die Technologie auch das Potenzial der Massenproduktion. Mit der Laser-Direktschreibtechnologie könnten bis zu 500.000 spezielle Nano-Elektroden pro Stunde hergestellt werden.
Das Forschungsergebnis wird in Nano Letters veröffentlicht, die von der American Chemical Society herausgegeben wird. In dem Papier wurde festgestellt, dass die neue Nano-Verarbeitungstechnologie in Bereichen wie Halbleiter, photonische Chips und mikroelektromechanische Systeme auf breiter Basis angewandt werden könnte.
Xiang Ligang, ein in Peking ansässiger altgedienter Industrieanalyst, sagte der Global Times, dass die neue Technologie chinesische Forschern die Herstellung selbstgebauter Lithographiemaschinen ermöglichen werde. „Aber es wird Jahre dauern, bis China die Lücke zu den fortgeschrittenen westlichen Anbietern … schließen kann“, sagte Xiang.
ASML lieferte im vergangenen Jahr 7-nm-EUV-Lithographiemaschinen aus. Das in den Niederlanden ansässige Unternehmen gab im Juni ebenfalls bekannt, dass es eine bedeutende Entwicklung in seiner Mehrstrahl-Inspektionswerkzeuglinie für 5-nm-Lithographiemaschinen vorgenommen hat.
„Chinesische Forschungsinstitute müssen mit Unternehmen zusammenarbeiten, um Theorien in Produkte umzusetzen. Was jedoch die Gewinne betrifft, so könnte die Herstellung einer Chip-Produktionsmaschine Milliarden Yuan kosten, und es wird Jahre dauern, bis sich die Investition amortisiert hat. Die meisten chinesischen Unternehmen halten das nicht für ein gutes Geschäft“, erklärte Xiang.
Der jüngste, von den USA geführte unerbittliche Angriff auf Chinas High-Tech-Industrien, der einige chinesische Technologieunternehmen wie Huawei von fortschrittlichen Chip-Importen abschneidet, hat der zweitgrößten Volkswirtschaft der Welt aufgezeigt, dass man in der Halbleiterindustrie autark sein muss.
Quelle(n):
Global Times
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